線(xiàn)路板中干膜的技術(shù)指標有哪些？

  smt貼片加工廠(chǎng)家為了能更好地選擇和使用干膜，需要了解干膜的技術(shù)性能和指標以及其工藝性。通常應主要了解干膜的以下技術(shù)要求。

（1） 外觀(guān)質(zhì)量

貼片加工廠(chǎng)通過(guò)目檢，干膜的外觀(guān)應均勻、有透明性，無(wú)流膠、無(wú)氣泡、無(wú)外來(lái)雜質(zhì)，表面無(wú)劃傷和皺褶。如果使用有這些缺陷的干膜，會(huì )引起掩模的質(zhì)量問(wèn)題或不能使用。 于成卷的干膜， 其卷繞應緊密、邊緣整齊，以便于在貼膜機上能連續貼膜操作。

（2） 干膜抗蝕劑層的厚度應根據使用的目的選擇

 如果用于蝕刻的抗蝕層，則厚度應為25～30μm；如果用于圖形電鍍的抗蝕層，則厚度 應為38～50μm；如果用于掩孔的抗蝕劑，則厚度應為25～50μm。用于制作超細印制導線(xiàn)圖形的抗蝕膜越薄越好，作出的圖形精度高，一般干膜中的抗蝕劑層厚度僅為十幾微米。

不同用途的SUNFDRT干膜的抗蝕層厚度見(jiàn)表

從表中可以看出，用途相似而不同pcba廠(chǎng)家的產(chǎn)品其厚度有所差異，應用時(shí)應根據需要和具體貼片加工廠(chǎng)的產(chǎn)品說(shuō)明選取適合厚度的干膜。干膜的寬度可以根據適用要求裁切，每一卷的長(cháng)度 一般不小于100m。

（3） 貼膜工藝性通常在貼膜機熱壓輥的溫度為105℃±10℃、線(xiàn)壓力為0. 54kgf/ cm和傳送 速度為0. 9～1. 8m/ min的條件下，能將干膜在覆銅箔的基材上貼牢。

（4） 光譜特性干膜中光致抗蝕劑的光譜吸收區域波長(cháng)為310～420nm，安全光區域波長(cháng)為 大于等于460nm。高壓汞燈及鹵化物燈在近紫外區附近輻射強度較大，大部分波長(cháng)在光致抗蝕劑的光譜吸收區域，均可作為干膜曝光的光源。低壓鈉燈主要輻射能量在波長(cháng)為589. 0～589. 6nm的范圍，且單色性好，符合干膜的操作安全光，并且所發(fā)出的黃光對人眼睛較 敏感、明亮，便于操作。

（5） 感光性干膜的感光性包括感光速度、曝光時(shí)間寬容度和深度曝光性等。

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